Nuestros gránulos de evaporación objetivo de pulverización catódica al vacío están diseñados para su uso en procesos de deposición de películas delgadas en las industrias de semiconductores, solar y óptica.Estos materiales de alta pureza garantizan una deposición uniforme de la película, una excelente adhesión y una formación mínima de partículas, lo que da como resultado una calidad de película superior y una mayor eficiencia de producción.Nuestros objetivos de pulverización catódica están disponibles en una variedad de materiales, formas y tamaños para cumplir con los requisitos específicos de nuestros clientes.