Los objetivos de pulverización catódica son esenciales en el proceso de deposición de películas delgadas, que se utilizan en diversas industrias, como la de semiconductores, solar y óptica.Estos objetivos están fabricados con materiales de alta pureza, lo que garantiza una deposición uniforme de la película, una excelente adhesión y una mínima formación de partículas.Vienen en diferentes materiales, formas y tamaños para cumplir con los requisitos específicos de la industria.